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    聚丙烯薄膜材料以其優(yōu)良的機械、電氣和化學性能，在高壓電力電容器領域中逐漸取代原有的電容器紙并得到了廣泛應用。采用純聚丙烯薄膜制作電容器時，主要工藝問題在于浸漬困難。當浸漬不充分時，殘留的微小氣隙在高場強下會產(chǎn)生局部放電，加速了介質的老化，長時間作用下會引起電容器絕緣介質擊穿，因此限制了電容器儲能密度的進一步提高。
    為了提高聚丙烯薄膜的浸漬效果，傳統(tǒng)方法是采用晶型轉變粗化工藝對薄膜進行粗化以提高材料表面粗糙程度，進而改善薄膜層間的浸漬性能，但是材料表面粗糙度的增加在一定程度上會影響材料的介電強度。除了材料表面粗糙度之外，材料表面極性基團也會對薄膜表面浸潤性起到重要的作用，但由于聚丙烯薄膜表面缺乏極性基團，表面能相對較低，導致聚丙烯薄膜的浸潤性較差。因此，為了進一步改善聚丙烯材料浸潤效果，需要對材料進行表面改性處理，以提高薄膜表面活性。
低溫等離子體技術在材料表面改性方面有很好的應用前景。出于不同的應用需求，國內(nèi)外研究者利用等離子體對聚丙烯材料表面改性進行了大量的研究。低氣壓輝光放電是產(chǎn)生等離子體的重要方法，嚴飛等采用低氣壓下輝光放電等離子體處理聚丙烯薄膜，處理后聚丙烯薄膜粗糙度增加，材料擊
穿電壓沒有明顯變化。Michael Binder 等人在低氣壓下對多種聚合物薄膜等離子體表面改性進行研
究，研究發(fā)現(xiàn)，經(jīng)過等離子體處理后，薄膜擊穿場強有顯著提升。采用低氣壓下輝光放電等離子體
技術需要真空設備完成等離子體的產(chǎn)生和材料處理，大大限制了規(guī)模化工業(yè)應用，因此大氣條件下
等離子產(chǎn)生技術受到更多研究者的關注。
    介質阻擋放電是在大氣條件下產(chǎn)生低溫等離子體的重要方法，主要用 2 種類型電極結構來產(chǎn)生放電等離子體，一種是平板電極結構，另一種是射流電極結構。許多研究人員對 2 類電極產(chǎn)生的等離子體用于材料處理進行了研究，并得到了良好的處理效果。但是平行平板電極結構在空氣氛圍中放電起始電壓高，放電形式一般為絲狀放電，如果將材料放置在阻擋介質之間，絲狀放電可能在局部區(qū)域損傷薄膜表面。射流等離子體可以克服平板電極結構的缺點，但是通常產(chǎn)生等離子體區(qū)域較小，還不適合大規(guī)模生產(chǎn)應用。